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          English


          有機金屬熱蒸發鍍膜機 FS-300

          設備參數

          腔體

          方形:300*300*(300-600),前開門,后側移門(接手套箱),材質:SUS304

          真空系統

          分子泵(Pfeiffer700L/S)+機械泵(10L/S),配旁抽閥. 極限真空可到2.0*10-5Pa.

          全量程真空計顯示范圍(1.0*10E5Pa-1.0*10E-5Pa),

          插板閥:HVA 6英寸/ HVA4英寸

          機架

          60進口鋁型材組裝,輕便,美觀

          基片盤

          伺服電機控制,可在0-50/分勻速轉動,可任意角度定位.

          可裝1-432*32基片

          配四塊掩膜板(掩膜圖形0-12),

          擋板

          基片擋板為氣缸+磁流體驅動,傳動穩定,密封可靠

          蒸發源

          蒸發源2-12:

          在腔體底部呈發散形分布,相互間擋板隔開,避免交叉污染

          電源

          進口TDK-Lambda系列電源.電流加熱模式, 精度0.1A

          數量:客戶要求

          功率:600W, 1500W, 3000W

          軟件控制

          PLC+PC

          真空系統:可在軟件界面自動,手動控制,

          蒸鍍過程的各個操作環節,掩膜板更換,樣品架旋轉及定位,電源功率調節等均可在軟件界面進行設定,實現軟件控制,

          供電:380 VAC,50Hz電源輸入。

          膜厚儀

          腔體內可裝1到多個晶振探頭,靠近樣品架中央有一個中心探頭。膜厚顯示精度0.01 A/S。

          顯示集成在電腦控制系統內,性能相當于或優于采用國際知名品牌SQM-242 PCI.

          顯示采用膜厚顯示儀或集成在PC機內的顯示卡。

          手套箱(選配)

          可選配,手套箱含水氧探頭、氣體循環和再生系統。水氧含量控制在小于1 ppm。

          配有EDWARDS旋片式真空泵或其它泵組

          手套箱尺寸:2400×750×900mm(長×寬×高)(可定制)


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